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一种改进微观结构的富铁高磁性能钐钴磁体的制备方法,包括合金铸锭、破碎制粉、粉末吸氧钝化、成型、热处理步骤;其中,热处理步骤中的固溶和时效处理结合多级控温冷却,风冷至室温,得到最终态钐钴磁体。固溶态磁体中存在的细长的短程有序微畴宽度为2~4nm。最后,对磁体进行多级时效处理。本发明的方法通过短程有序微畴控制技术,显著增加了1:5H胞壁相的形核位点,在富铁钐钴磁体中实现胞壁相均匀析出,可以得到具有完整胞状结构的富铁高磁性能钐钴磁体,制备的钐钴磁体具有以下磁性能:磁体的剩磁大于11.8kGs,内禀矫顽
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114914078 A
(43)申请公布日 2022.08.16
(21)申请号 202210691595.4
(22)申请日 2022.06.17
(71)申请人 钢铁研究总院有限公司
地址 100
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