一种制备图案化石墨炔薄膜的方法.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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一种制备图案化石墨炔薄膜的方法.pdf

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本发明公开了一种制备图案化石墨炔薄膜的方法，包括：方法1：在铜板基底上先制备出图案化的无机层，将需要石墨炔薄膜的区域暴露出来，将不需要石墨炔薄膜的区域用无机层覆盖，在没有无机层覆盖的区域生长出石墨炔薄膜；在获得的石墨炔层沉积或者涂布其他基底；利用化学溶液，将铜板基底溶解，从而将图案化的石墨炔层转移到其他基底上；或方法2：在任意基底上，先制备出图案化的铜层，只在有铜层的区域生长出石墨炔薄膜。本发明借助铜层作为生长石墨炔薄膜的催化剂，通过黄光工艺对铜层进行直接图案化的处理，或者在其表面覆盖图案化的无

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114914386 A (43)申请公布日 2022.08.16 (21)申请号 202210519334.4 (22)申请日 2022.05.12 (71)申请人江汉大学地址 430056 湖