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一种系统,其包括:光学光源;储层,其配置成容纳液态光敏介质,该液态光敏介质适于在曝露于来自光学成像系统的一部分光中时改变状态;以及控制系统,其配置为控制所述光学光源以将所述储层中容纳的所述光敏介质的表面的特定部分曝露于来自所述光源的光中。控制系统可以进一步配置为控制光学光源以将容纳在储层中的光敏介质的表面重复地曝露于来自光源的光中,以构建所需物体的层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112166023 A
(43)申请公布日 2021.01.01
(21)申请号 201980025865.4 (51)Int.Cl.
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