使用了环式羰基化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdfVIP

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2023-05-23 发布于四川
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使用了环式羰基化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdf

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提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数，对所谓高低差基板也被覆性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外，提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜、以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：碳原子数6～60的芳香族化合物(A)、与碳原子数3～60的环式羰基化合物(B)所具有的羰基的反应生成物；以及溶剂，上述反应生成物中，上述环式羰基化合物(B)的1个碳原子连接2个上述芳香

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112166379 A (43)申请公布日 2021.01.01 (21)申请号 201980035022.2 (74)专利代理机构北京市中咨律师事务所

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