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2023-05-24 发布于四川
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本发明公开了一种晶圆蚀刻槽，其结构包括顶盖、蚀刻槽、控制按钮、机体，顶盖与机体的上端铰链连接，控制按钮与机体的前端活动卡合，蚀刻槽安装于机体的上表面位置，通过晶圆及其上表面的蚀刻液对承载块产生的压力，能够使承载块上的吸附盘受挤压在收缩板的配合下向下收缩，从而使密封块能够对吸附盘的中部进行密封，故而使吸附盘能够受挤压对晶圆的底部进行吸附，当储液腔外部的蚀刻液通过透液机构进入其内部时，通过外部的蚀刻液对联动板产生的挤压，能够使联动板与外管之间产生间隙，且通过外摆板自身的重力，能够在失去外管内壁的挤压

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112185859 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202011059375.7 (22)申请日 2020.09.30 (71)申请人赖情依地址 510

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