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本发明公开了一种无亚表面损伤抛光设备,包括等离子体发生装置、磁场装置、高能带电离子束缚腔体、加工抛光真空腔体,通过磁场装置产生的磁场将等离子体发生装置产生的高能带电离子束缚隔离在加工抛光真空腔体中抛光区域以外的高能带电离子束缚腔体中,等离子体发生装置产生的自由基等离子体活性基团进入加工抛光真空腔体中抛光区域,实现抛光等;本发明有效减少工艺腔体内高能带电离子的数量,大量减少高能离子对光学元件表面的轰击溅射效应,可以有效去除光学元件的亚表面损伤层,明显改善光学元件的表面质量等。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112192323 A
(43)申请公布日 2021.01.08
(21)申请号 202011006458.X
(22)申请日 2020.09.23
(71)申请人 航天科工微电子系统研究院有限公
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