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2023-05-24 发布于四川
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一种ZnO薄膜的干法刻蚀方法.pdf

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一种ZnO薄膜的干法刻蚀方法，包括如下步骤：对ZnO薄膜进行清洗，吹干后待用；在ZnO薄膜表面旋涂一层光刻胶；通过掩模紫外曝光和丙酮清洗获得所需图案；对ICP刻蚀的刻蚀腔进行抽真空；向刻蚀腔内通入甲烷、氢气和氩气，气体流量分别为3sccm、8sccm和5sccm，调节真空腔压强为0.13Pa；对刻蚀腔进行预刻蚀；在刻蚀腔内载入ZnO薄膜，调节刻蚀温度为20摄氏度，射频功率设置为200W，ICP功率设置为500W或1000W，进行刻蚀，完成后取出样品，使用丙酮超声清洗去除光刻胶，获得最终样品

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112185818 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202011070446.3 (22)申请日 2020.10.09 (71)申请人南京信息工程大学地址

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