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本发明公开了一种彩陶刻画工艺,包括以下步骤:S1、在胚体成型后进行初次抛光操作;S2、在胚体表面进行图案刻画操作;S3、在刻画的图案刀痕上涂抹底色涂料,然后将底色涂料阴干;S4、在底色涂料上再次涂抹上彩涂料,然后将上彩涂料烘干;S5、在上彩涂料上再次涂抹第一保护涂料,然后将第一保护涂料自然晒干;S6、对胚体表面进行二次抛光操作,然后在图案刀痕之外的胚体表面涂抹第二保护涂料,将第二保护涂料烘干;S7、在胚体表面涂覆釉色表面层,然后将胚体放置于烧窑中烧制2~3天,得到彩陶半成品;S8、将烧制完成的彩
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112171869 A
(43)申请公布日 2021.01.05
(21)申请号 202011031914.6 C09D 5/00 (2006.01)
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