一种双面氦离子束刻蚀制备近零厚度纳米孔的方法及其产品和应用.pdfVIP

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2023-05-24 发布于四川
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一种双面氦离子束刻蚀制备近零厚度纳米孔的方法及其产品和应用.pdf

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本发明涉及一种双面氦离子束刻蚀制备近零厚度纳米孔的方法及其产品和应用，属于单分子纳米孔检测技术领域。本发明公开了一种双面氦离子束刻蚀制备近零厚度纳米孔的方法，通过具有极高的加工精度和可控性的氦离子束加工方法，制备得到具有高度可控性的零厚度纳米孔结构，使其材料、孔径大小、孔径的样式、孔径个数都可以根据待测分子的性质进行专有性设计，能够提高纳米孔检测DNA序列、RNA序列、DNA序列的修饰、RNA序列的修饰或蛋白质分子的空间分辨率、时间分辨率以及捕获率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112198194 A (43)申请公布日 2021.01.08 (21)申请号 202011104735.0 (22)申请日 2020.10.15 (71)申请人中国科学院重庆绿色智能技术研究

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