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本发明提供一种NADA阶梯结构的形成方法,提供由两层材料交替堆叠构成的堆叠结构,形成光刻胶将堆叠结构的一端露出;将堆叠结构分为n等分,每一等分包含m个叠层;刻蚀至留下m个叠层不被刻蚀,形成第一大台阶;将第一大台阶刻蚀至留下第一大台阶底部的m个叠层不刻蚀,形成第二大台阶;重复至形成第n台阶为止;沉积第一、第二硬掩膜层;刻蚀去除水平部分的硬掩膜层形成侧墙;在水平部分上形成光刻胶图形,刻蚀至去除一个叠层的深度为止;光刻胶图形修边并刻蚀至去除一个叠层的深度为止;重复至将第一至第n台阶分别形成m个单台阶为
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112201662 A
(43)申请公布日 2021.01.08
(21)申请号 202011014994.4
(22)申请日 2020.09.24
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
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