阵列基板、阵列基板制作方法及掩膜版.pdfVIP

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2023-05-24 发布于四川
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阵列基板、阵列基板制作方法及掩膜版.pdf

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本发明实施例属于显示设备技术领域，具体涉及一种阵列基板、阵列基板制作方法及掩膜版。本发明实施例旨在解决相关技术中金属膜上形成的槽口侧壁较为陡峭，在金属膜上形成其他膜层时，其他膜层容易在槽口侧壁处发生滑落的问题。本发明实施例的阵列基板、阵列基板制作方法及掩膜版，基底上设置有金属膜，在金属膜上形成第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽的底面相较于第二凹槽的底面更靠近基底，在平行于基底的平面上，第一凹槽的投影位于第二凹槽的投影的内部；进而降低了槽口侧壁的坡度，可以避免形成的后续膜层在第一槽口侧壁上发生滑落，后续

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112185985 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202011063235.7 H01L 21/28 (2006.01) (22)申请日 2

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