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本发明提供能够简便且高精度地调整相对于掩模的吸附力分布的技术。提供一种磁吸附机构,所述磁吸附机构使用磁力使掩模吸附于成膜对象物的表面,所述掩模用于对成膜对象物形成所期望的成膜图案,其中,所述磁吸附机构具备:多个磁铁,所述多个磁铁相对于成膜对象物配置在与掩模相反的一侧;以及背轭,所述背轭安装有多个磁铁,并形成磁回路,所述磁回路利用磁铁的磁力而产生在朝向成膜对象物的方向上吸引掩模的吸附力,背轭在与磁铁的磁化方向上的端面接触的接触部具有磁阻调整部,所述磁阻调整部通过在与端面的一部分之间形成幅度可变的空
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112185876 A
(43)申请公布日 2021.01.05
(21)申请号 202010626576.4 C23C 14/24 (2006.01)
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