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本发明涉及多射束描绘方法及多射束描绘装置。本发明的一个方式的多射束描绘方法,进行基于射束偏转的第k次(k为自然数)的追踪控制,以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动,在进行第k次的追踪控制的同时,在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内,一边进行同时移位,一边进行多次束发射,在第k次的跟踪控制期间经过后,使跟踪位置返回到对第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置,作为第k+1次的跟踪控制的开始位置。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112213926 A
(43)申请公布日 2021.01.12
(21)申请号 202010661012.4
(22)申请日 2020.07.10
(30)优先权数据
2019-1285
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