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该发明涉及一种晶圆清洗装置、晶圆处理设备及晶圆清洗方法,其中晶圆清洗装置包括:晶圆载台,用于放置晶圆;第一喷嘴,朝向所述晶圆载台设置,用于喷淋清洗液;第一驱动臂,连接至所述第一喷嘴,用于驱动所述第一喷嘴移动,以改变所述第一喷嘴的喷淋区域;至少一个第二喷嘴,朝向所述晶圆载台设置,用于喷淋清洗液;第二驱动臂,连接至所述第二喷嘴,用于驱动所述第二喷嘴移动至所述第一喷嘴移开的喷淋区域,以对所述第一喷嘴移开的喷淋区域进行补喷。本发明具有第二喷嘴,由所述第二喷嘴对第一喷嘴的喷淋区域进行补喷,以优化第一喷嘴对
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112233996 A
(43)申请公布日
2021.01.15
(21)申请号 20191
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