冠醚类材料掺杂Spiro-OMeTAD的空穴传输层及其制备方法和应用.pdfVIP

冠醚类材料掺杂Spiro-OMeTAD的空穴传输层及其制备方法和应用.pdf

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一种冠醚类材料掺杂Spiro‑OMeTAD的空穴传输层及其制备方法和应用,属于太阳能电池技术领域。所述空穴传输层为冠醚类材料掺杂的Spiro‑OMeTAD,其中,冠醚类材料与Spiro‑OMeTAD的摩尔比为(0.0003~0.0093):1。本发明提供的空穴传输层,与未掺杂的空穴传输层相比,冠醚类材料能够与Li+形成大环螯合结构,促进Li‑TFSI在有机溶剂(氯苯、氯仿等)中的溶解,能够有效阻止Li‑TFSI的聚集;此外,这样的螯合结构能够有效改善Li‑TFSI的吸湿性以及有效抑制Li+迁移到

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112216797 A (43)申请公布日 2021.01.12 (21)申请号 202011072519.2 (22)申请日 2020.10.09 (71)申请人 电子科技大学 地址

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