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本发明提供一种真空处理装置用的辊筒,设置为尽量抑制在片状基材上产生其长度方向和宽度方向的温度分布。本发明的真空处理装置用的辊筒(CR),其在使片状基材(Sw)在真空室(Vc)内运行的同时对基材表面实施规定的真空处理的真空处理装置(Dm)上,与实施真空处理的处理单元(Es)相对设置,卷绕有片状基材并可自由旋转,其特征在于,具有:轴体(1);套在轴体外的内筒体(2);留出间隙(Ds)地围绕内筒体的外筒面的外筒体(3);以及分别封闭内筒体和外筒体的轴向两端的盖体(41,42)。各盖体具有多条流通路径(
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112236545 A
(43)申请公布日 2021.01.15
(21)申请号 201980036469.1 (74)专利代理机构 北京英特普罗知识产权代理
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