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一种量子点层图案化的方法及相关应用.pdfVIP

一种量子点层图案化的方法及相关应用.pdf

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    本发明公开了一种量子点层图案化的方法及相关应用，首先在基底上形成包括第一材料的量子点膜，然后采用红外光照射量子点膜的曝光区域；由于第一材料被配置为在红外光的照射下发生光热效应以使量子点膜具有预设温度，而量子点膜包括具有不饱和烷烃类基团的第一配体，因此第一配体在预设温度以及第一材料的催化下发生环氧化反应生成第二配体，曝光区域生成的第二配体和未曝光区域的第一配体在第一溶剂中的溶解性不同，以使曝光区域的量子点和未曝光区域的量子点在第一溶剂中的溶解性不同，因此可以采用第一溶剂清洗被光照射后的量子点膜，以

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112234154 A (43)申请公布日 2021.01.15 (21)申请号 202011096656.X (22)申请日 2020.10.14 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司

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