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本发明涉及超精密加工技术领域，具体公开了一种基于动态磁场的抛光装置、抛光方法、应用，所述基于动态磁场的抛光装置包括磁流变抛光组件与磁场发生组件，磁流变抛光组件包括抛光盘，所述抛光盘的表面沿圆周方向设有若干个V形结构，用于增加抛光过程中流体动压力，所述抛光盘外侧的工作台部分设置有回收槽，本发明实施例通过在抛光盘上设有高低起伏的V形结构，使磁流变液在流过时形成流体动压膜；通过在磁场发生组件时，使磁流变液由液态变成固态的柔性抛光垫，在柔性抛光垫和动压膜的双重作用下，工件被打磨得更均匀、效率更好、效果更
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112222956 A
(43)申请公布日 2021.01.15
(21)申请号 202011102428.9
(22)申请日 2020.10.15
(71)申请人 长春工业大学
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