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本发明公开了一种具有纳米多孔结构的气敏传感器元件的制备方法，包括以下步骤：S1、将聚合物覆膜自组装在覆盖在微加热平台的叉指电极上，得到叉指电极经过覆膜的模板基础层；S2、采用纳米压印方法得到规整的纳米模板结构，纳米模板结构具有纳米多孔阵列结构层，纳米模板结构上残留有残余模板剂；S3、去除纳米压印残留层以使叉指电极层裸露在空气层且成为气敏材料成膜载体；S4、在气敏材料成膜载体上制备金属离子掺杂氧化物薄膜作为气体敏感材料层；S5、对残余模板剂，得到具有纳米多孔结构的气敏传感器元件。该制备方法兼具经济
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112213364 A
(43)申请公布日 2021.01.12
(21)申请号 202010930688.9
(22)申请日 2020.09.07
(71)申请人 天地（常州）自动化股份有限公司
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