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抗蚀剂图案形成方法包含：在基板(S)上形成含有基体树脂(R)、增感剂前驱体(Pp)、产酸剂(PAG)、产碱剂(PBG)和碱(Ba)的抗蚀剂层(10)的步骤；由增感剂前驱体(Pp)生成增感剂(Ps)的步骤；由产酸剂(PAG)产生酸(Ac)并由产碱剂(PBG)产生碱(Ba)的步骤；在整片曝光之后对抗蚀剂层(10)进行热处理的步骤；以及，在热处理后对抗蚀剂层(10)进行显影的步骤。图案曝光(L1)中表示酸的值(A1)相对于表示碱的值(B1)之比(C1＝A1/B1)与整片曝光(L2)中表示酸的值(A2)
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112272798 A
(43)申请公布日 2021.01.26
(21)申请号 201980039692.1 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限
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