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本公开涉及一种用于制造纳米孔薄膜的方法,包括:材料准备工序,其中,准备或铺设用于制造薄膜的膜体,并将膜体传送至压印工位;纳米孔压印工序,其中,利用压印装置在膜体上受控地压印出呈预定阵列布置的纳米孔,纳米孔至少伸入到膜体的一部分厚度中,压印装置上设置有用于形成纳米孔的、呈预定阵列布置的压印元件,压印元件构造成压印模具上的突出结构阵列;和固化工序,其中,将已经压印出纳米孔的膜体通过发光装置或发热装置传递能量进行光化学反应或热化学反应而固化,以使其形成具有期望机械强度的膜体。制造的薄膜可用在口罩或防护
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112248422 A
(43)申请公布日 2021.01.22
(21)申请号 202011196436.4 B29C 35/02 (2006.01)
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