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本发明涉及一种去磨纹的硅蚀刻液。该蚀刻液由硝酸、硝酸羟胺、氟磺酸、二氟化氢铵、二氟化氙、硫酸、增稠剂和去离子水组成。其中增稠剂可以是聚丙烯酰胺、己醇、辛醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮等中的任意一种。本发明中硝酸羟胺与氟磺酸反应生成氢氟酸，二氟化氙在酸性环境下缓慢分解生成氢氟酸，均增加蚀刻液组合物中的氢氟酸的浓度，能够抑制上述蚀刻液组合物的经时变化，维持稳定的蚀刻速率。本发明的去磨纹蚀刻液能够直接用于磨片的背面打毛工艺，蚀刻掉较深的机械磨纹，省略了抛光去磨纹工序，节约了成本，提高生产效率，同时也能维
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112251233 B
(45)授权公告日 2021.09.07
(21)申请号 202011139447.9 (51)Int.Cl.
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