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本发明公开了一种半导体设备及腔室压力控制方法。该半导体设备包括:传输腔室和至少一个工艺腔室,传输腔室与每个工艺腔室之间均设有承压阀;工艺腔室包括:第一抽真空气路;传输腔室包括:第二抽真空气路和充气气路,充气气路包括第一充气模式和第二充气模式;第一充气模式用于对传输腔室以第一充气速率进行升压;第二充气模式用于在传输腔室的压力小于等于工艺腔室的压力时,对传输腔室以第二充气速率进行升压,直到传输腔室的压力大于工艺腔室的压力,且传输腔室与工艺腔室之间的压差在预设范围之内,其中,第二充气速率小于第一充气速
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112281143 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202011026988.0
(22)申请日 2020.09.25
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
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