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本发明提供了一种塑料基底硬质减反射膜及其镀膜方法，该镀膜方法包括以光学塑料为基底，交替沉积TiO2和SiON；TiO2采用电子束蒸发沉积，SiON采用磁控溅射沉积。该反射膜的镀膜装置包括真空腔体，真空腔体底部设置电子束蒸发镀膜装置，还包括设置于真空腔体外的旋转装置和磁控溅射镀膜装置，磁控溅射镀膜装置与旋转装置固定连接，旋转装置驱动磁控溅射镀膜装置做转动升降式运动，使磁控溅射镀膜装置能够移入和/或移出真空腔体。本发明的镀膜方法能够制得以光学塑料为基底的高硬度、低反射率高透射率的硬质减反射膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112251720 B
(45)授权公告日 2021.04.09
(21)申请号 202011513686.6 C23C 14/50 (2006.01)
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