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本发明公开了一种用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,该研磨抛光盘盘面包括磨盘体,该磨盘体的表面成型有缓冲垫层,在缓冲垫层上成型带衬块的抛光垫作为研磨结构;其所述衬块包括层叠设置的三层橡胶衬垫,三层橡胶衬垫中的上层橡胶衬垫、中间层橡胶衬垫、下层橡胶衬垫的厚度递减,并在上层橡胶衬垫与中间层橡胶衬垫之间、中间层橡胶衬垫与下层橡胶衬垫之间以及下层橡胶衬垫的下表面上均成型有聚醚醚酮衬材;而所述抛光垫为多层复合结构,包括自上而下设置的丁腈橡胶层、内层毛毡层以及成型于内层毛毡层表面的绒面毯。本发明能显著提高小尺
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112276788 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202011163753.6
(22)申请日 2020.10.27
(71)申请人 湖南元宏特种陶瓷有限公司
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