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本发明提出了一种用于悬臂梁型SOI‑MEMS器件的选择性电化学刻蚀方法,是四电极电化学刻蚀方法在MEMS器件加工上的新应用,可以解决悬臂梁的释放和使用中出现的粘附问题。对悬臂梁型SOI‑MEMS器件进行释放后,采用选择性电化学刻蚀的方法对衬底层进行了刻蚀,而器件层不粗糙化处理,腐蚀埋藏氧化层的方法能增加电化学腐蚀处理层的粗糙度;电化学腐蚀后,释放HF蒸气的开关衬底层,开关的活动部分与基板的分离长度和间隙增大;随着粗糙度和间隙的增大,导致开关粘附的压力也大大增加。选择性电化学腐蚀可有效防止悬臂梁式
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112265955 A
(43)申请公布日 2021.01.26
(21)申请号 202011039741.2
(22)申请日 2020.09.28
(71)申请人 江苏昊微纳科技服务有限公司
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