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本申请案涉及用于静电卡盘的多层的接地机构和相关方法。描述了用以在晶片处理期间紧固和支撑晶片衬底的多层静电卡盘和相关方法,其中所述卡盘包含接地结构,所述接地结构包含接地层和接地引脚。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112289731 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202010722741.6
(22)申请日 2020.07.24
(30)优先权数据
62/877,91
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