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可流延使用的低粗糙度MLCC功能离型膜及其制备方法.pdfVIP

可流延使用的低粗糙度MLCC功能离型膜及其制备方法.pdf

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    本发明公开了可流延使用的低粗糙度MLCC功能离型膜及其制备方法，可流延使用的低粗糙度MLCC功能离型膜，包括基材层以及从下至上依次涂布并固化于基材层之上的功能硬化涂层、抗静电涂层和低温固化型离型涂层，可流延使用的低粗糙度MLCC功能离型膜的制备方法包括a)功能硬化剂的涂覆和固化、b)抗静电剂的涂覆和固化和c)低温固化型离型剂的涂覆和固化，所制备出的具有多层结构的MLCC功能离型膜，具有高平整度、高透光率、高拉伸强度、低粗糙度、抗静电性、稳定离型力、高残余接着率和良好外观等优势，在陶瓷电容的流延生

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112280085 A (43)申请公布日 2021.01.29 (21)申请号 202011014739.X C09D 165/00 (2006.01)

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