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本申请提供了聚焦环和具有该聚焦环的基板处理装置。基板处理装置包括工艺腔室、卡盘和聚焦环,其中:工艺腔室提供用于基板的工艺处理空间;卡盘支承基板;聚焦环布置为围绕卡盘的边缘,其中,聚焦环包括具有不同性质的多个层,并且多个层之间的接合表面形成为预先设定的规定图案。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112289671 A
(43)申请公布日
2021.01.29
(21)申请号 20201
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