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本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的制备方法，包括镀膜室，所述底座板上固定设置有液压缸和两个支撑杆，所述弧形吸附垫套设在筒状磁控靶材中；所述完全齿轮的侧面啮合设置有单齿齿轮；所述齿轮盘上固定设置有实心隔板和中空隔板，所述中空隔板中对称活动设置有滑杆，所述滑杆远离齿轮盘圆心的一侧固定设置有清洁刷，所述推杆固定于弧形电磁板上，所述中空隔板的中心处设置有电磁杆。本发明提供了磁控溅射镀膜设备，靶材可以随着工件的旋转间歇性地转动一定角度，也可以调整其倾斜角度，适应多种镀膜需要，且屏蔽罩间距可调，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112251727 B
(45)授权公告日 2022.08.26
(21)申请号 202011137735.0 (51)Int.Cl.
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