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2023-05-26 发布于四川
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一种EUV光源锡靶液滴发生装置.pdf

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本发明涉及一种EUV光源锡靶液滴发生装置。本发明熔池容纳于腔体内，熔池内容纳锡料；向熔池内供给压力气体使腔内压力保持对外部环境的正压；所述的腔体底部设置喷孔，喷孔的直径在1微米至1000微米范围内；所述的微波源设置于腔体内部和熔池外部；所述的激振元件设置在熔池内，用于对喷孔附近的锡料施加振动扰动；在熔池内部设置红外温度传感器监测锡料的温度。具有加热速度快，加热均匀，能耗低的优点；不需要额外配备锡料预熔和输送装置，同时降低了污染锡料的风险；避免了热电偶等传感器在微波环境中可能出现的打火风险；避免微

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112272426 A (43)申请公布日 2021.01.26 (21)申请号 202011162486.0 (22)申请日 2020.10.27 (71)申请人浙江大学地址 31

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