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本发明涉及一种3D叠层掩模衬底结构及其制备方法和外延生长方法，属于光电子技术领域。本衬底结构包括一衬底，衬底上依次设有底层掩模层、顶层掩模层；其中，底层掩模层设有周期性分布的特殊图形窗口，分别可以是条形、正三角形、和正六边形(在平面内的对称性是与六方晶系III族氮化物材料如GaN材料的晶体对称性一致或其子集的图形)；顶层掩模层与底层图形周期相同，但相互错开。与现有技术相比，本发明提供了一种更优化的图形设计，同时提高了无位错外延膜的有效宽度，更具有使用价值，能够制备铺满整个衬底表面的连续平整的高质
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112301325 A
(43)申请公布日
2021.02.02
(21)申请号 20191
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