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提供了一种半导体存储器装置以及该半导体存储器装置的制造方法。一种半导体存储器装置包括:下层叠结构,其在基板上并且包括在垂直方向上层叠的多个下层;中间层叠结构,其在下层叠结构上并且包括在垂直方向上层叠的多个中间层;多个凹槽,其在接触区域中并且穿透中间层叠结构,所述多个凹槽按照不同的深度暴露下层叠结构;以及多个台阶,其沿着凹槽的侧壁形成。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112310097 A
(43)申请公布日
2021.02.02
(21)申请号 20191
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