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本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种吸附装置、曝光装置、光刻设备及吸附方法。吸附装置包括：吸盘，吸盘的基底吸附面环绕其中心开设有安装凹槽，且基底吸附面于安装凹槽的内侧开设有用于与真空源连通的吸附凹槽；密封圈，其下端密封设置在安装凹槽内，其上端用于与基底接触；当密封圈未与基底接触时，密封圈的上端凸出吸附面，当吸附凹槽处于真空状态时，密封圈完全位于安装凹槽内，且密封圈的上端与基底吸附面平齐。曝光装置包括上述吸附装置，光刻设备包括上述曝光装置，吸附方法应用于上述吸附装置对基底进行吸附。本发明公开的吸
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112309947 A
(43)申请公布日
2021.02.02
(21)申请号 20191
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