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一种半导体结构及其形成方法、晶体管,形成方法包括:提供基底,基底上形成有伪栅层,伪栅层侧壁上形成有侧墙,伪栅层和侧墙露出的基底上形成有层间介质层,层间介质层露出伪栅层和侧墙的顶部;去除部分高度的伪栅层,形成剩余伪栅层,且剩余伪栅层和侧墙围成凹槽;沿垂直于凹槽侧壁的方向,对剩余伪栅层露出的侧墙进行减薄处理;在减薄处理后,去除剩余伪栅层,在层间介质层内形成栅极开口;在栅极开口中形成金属栅极结构。通过减薄处理,使侧壁上形成有剩余侧墙的栅极开口呈T字型,即增大了栅极开口的顶部开口尺寸,从而降低了金属栅极
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112309861 A
(43)申请公布日
2021.02.02
(21)申请号 20191
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