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本公开提供了一种包括半导体存储器的电子设备。所述半导体存储器包括:具有基本水平的上表面的基板;第一至第N层,所述第一至第N层在所述基板上被设置成水平的层并且在垂直方向上在所述基板上方彼此间隔开,其中所述第一至第N层中的每一个包括多条导电线;绝缘层,所述绝缘层被设置成填充所述导电线之间的空间;具有侧壁的孔,所述孔在垂直方向上延伸穿过所述绝缘层并在所述导电线之间延伸,以在所述孔的侧壁中暴露所述第一至第N层的所述导电线;可变电阻层,所述可变电阻层被设置在所述孔的侧壁上;以及导电柱,所述导电柱被设置成填
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112310146 A
(43)申请公布日
2021.02.02
(21)申请号 20191
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