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本发明MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置属于精密半导体技术领域;所述MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置包括主光源、窗口板、多孔转盘、固定板、凸透镜、保护膜、基板、副光源、棱镜和光电开关;主光路上沿光线传播方向依次设置主光源、窗口板、多孔转盘、固定板、凸透镜、保护膜和基板;副光路上沿光线传播方向依次设置副光源、棱镜和光电开关;本发明MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置,通过采用一种全新的光学定位手段,能够在制作探针测试基座的基板上实现亚微米级光学定位。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112327583 B
(45)授权公告日 2022.04.19
(21)申请号 202011365961.4 CN 111766414 A,2020.10.13
(22)
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