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本发明提供一种快恢复二极管，涉及二极管领域。该快恢复二极管，包括：衬底层；N型外延层，位于所述衬底层表面；P型注入区，位于所述衬底层表面，且设置于所述N型外延层的侧部；扩散区，位于所述N型外延层的顶部区域，与P型注入区分隔设置。利用该快恢复二极管能够解决现有技术中采用扩铂工艺降低快恢复二极管反向恢复时间时容易导致其正向导通压降高的问题，通过改变快恢复二极管的结构达到降低快恢复二极管反向恢复时间的目的。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112310226 B
(45)授权公告日 2022.01.28
(21)申请号 201910691503.0 H01L 21/329 (2006.01)
(22)申请日
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