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提供了用于在工件上进行硬掩模(例如,含碳硬掩模)去除工艺的装置、系统和方法。在一个示例实施中,工艺可包括允许工艺气体进入等离子体腔室,使用感应耦合的等离子体源从工艺气体在等离子体腔室中生成等离子体,和将含碳硬掩模暴露于等离子体以去除至少一部分的含碳硬掩模。工艺气体可包括含硫气体。工艺气体不包括含卤素气体。感应耦合的等离子体源可通过接地的静电屏蔽与等离子体腔室分开以减少感应耦合的等离子体源和等离子体之间的电容耦合。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112368805 A
(43)申请公布日 2021.02.12
(21)申请号 201980044844.7 (74)专利代理机构 北京市铸成律师事务所
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