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在检查光刻过程的元件中评估统计分布的测量值的方法和装置.pdfVIP

在检查光刻过程的元件中评估统计分布的测量值的方法和装置.pdf

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    本发明涉及一种用于在检查光刻过程的元件(810)中评估统计分布的测量值(100、300、350)的方法(900)，其包括以下步骤：(a)在训练的机器学习模型(700)中使用多个参数(730)，其中，在与测量值(100、300、350)的测量相关联的时间段中参数(730)表征测量环境(880)的状态；以及(b)执行训练的机器学习模型(700)以便评估测量值(100、300、350)。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112384855 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 201980045278.1 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所

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