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斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法,包括基膜,所述基膜顶面设置有斜面型金属层,基膜顶面一侧设置有留边,所述基膜厚度均匀性为±0.01mm;包括机台,所述机台顶面固定有箱体,第一挡板与箱体分隔区域为冷却区,第一挡板与第二挡板分隔区域为热处理区,第二挡板与第三挡板分隔区为监测区,第三挡板与箱体分割区域为辊压区;S1、高均匀性基膜制备;S2、斜面型金属层蒸镀;本发明基膜在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112366081 B
(45)授权公告日 2022.05.27
(21)申请号 202011014591.X H01G 13/00 (2013.01)
(22)申请日 2020.09
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