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一种含铜叠层蚀刻液、蚀刻方法及其应用.pdfVIP

一种含铜叠层蚀刻液、蚀刻方法及其应用.pdf

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    本发明涉及金属表面化学处理领域，更具体地，本发明涉及一种含铜叠层蚀刻液、蚀刻方法及其应用，所述蚀刻液包括主剂，按重量份计，所述主剂包括1‑20份氧化剂、0.01‑1份氟离子源、0.01‑5份无机酸、1‑15份有机酸、1‑15份有机碱、0.01‑5份双氧水稳定剂、0.01‑1份金属缓蚀剂，溶剂补足100份。本发明提供的蚀刻液成本低，无磷，对环境友好，废液处理成本较低；能够有效抑制不同金属界面处的裂缝；具有较高的铜离子负载能力；具有优良的蚀刻特性，单边CD‑Loss

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112342548 B (45)授权公告日 2022.03.15 (21)申请号 202011260229.0 C23F 1/46 (2006.01)

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