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2023-05-28 发布于四川
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本发明涉及一种微光刻的组件，特别是使用极EUV范围(EUV)中的光，所述微光刻的组件包括用于支撑光学单元(106、107)的支撑结构(109)，所述光学单元的质量特别是等于4t至14t，优选地为5t至10t，更优选地为6t至8t。支撑结构(109)包括用于支撑光学单元(106、107)的多个分离的支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的每一个包括空气轴承单元(111.1、111.2、111.3、111.4)，通过空

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112384862 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 201980044987.8 (74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

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