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本发明公开了一种晶圆凸块下金属化的镀层制造工艺及其镀层结构,该工艺中的基材为硅或者碳化硅半导体;该基材表面上设置有导电线路区和非导电区,基材表面的导电线路区向下凹陷后形成一倒状的晶圆凸块。本发明该发明采用的化学镀锡合金工艺得到镀层为化学置换型镀层,不需要通电,也非传统的化学自催化反应,仅需要置换反应就可以进行。采用该发明的得到凸块下金属化(UBM)和再布线(RDL)既可以具有绑定性,也具有良好的焊接性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112382579 B
(45)授权公告日 2022.02.15
(21)申请号 202010447839.5 C23C 18/48 (2006.01)
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