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一种新型的辐照离子探测器器件结构,涉及微电子技术和半导体技术。本发明是一种基于体硅增强型NMOS,并通过STI浅槽隔离在P衬底的有源区沟道之间增加一个辐照敏感区,该区域主要是由SiO2组成,当MOS位于工作状态且辐照总剂量较大时,在SiO2辐照敏感区感生出电子,从而形成漏源之间的漏电通道,以此来实现检测辐照的目的。本发明所要解决的关键技术问题是:提供一种带MOS开关的辐射离子探测器器件结构,通过计算器件的漏极电流Id,从而测量外界辐照总剂量的大小及外界的辐照影响。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112366245 A
(43)申请公布日 2021.02.12
(21)申请号 202011236857.5
(22)申请日 2020.11.09
(71)申请人
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