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本发明公开了一种含1T相的MoS2薄膜及其制备工艺。该制备工艺利用酒精清洗基体表面并用吹风机吹干,放入磁控溅射腔体中采用MoS2靶和金属靶共溅射在基底上沉积金属掺杂的MoS2层,通过工艺控制可以实现对MoS2相变进行调控获得含1T相的MoS2薄膜。利用该制备工艺制备的薄膜具有优异的导电性、催化活性、电荷存储容量,可用于电化学能量转换与存储、电池电极材料、超级电容器、气体传感器等领域,市场前景广泛,并且制备过程简单易操作,沉积速率快。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112359318 A
(43)申请公布日 2021.02.12
(21)申请号 202011120841.8
(22)申请日 2020.10.19
(71)申请人 西安交通大学
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