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本发明公开了半导体生产加工用废水处理装置，包括初步滤渣组件、二次传输管、反应除害组件、浮沫去除组件、输入管以及沉淀筒，所述沉淀筒上侧设置有初步滤渣组件，所述沉淀筒右侧连接有输入管，所述输入管远离沉淀筒一端设置有反应除害组件，所述反应除害组件上侧连接有二次传输管，所述二次传输管远离反应除害组件一侧设置有浮沫去除组件，所述初步滤渣组件包括固定柱、滤渣盘、清扫刷、过滤网、滤布以及对接柱，所述沉淀筒顶部可拆卸插接有对接柱，所述对接柱远离沉淀筒一端固定有滤渣盘。本发明采用使用石灰粉与硫酸铝产生的氢氧化铝沉
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112358082 A
(43)申请公布日 2021.02.12
(21)申请号 202011161583.8
(22)申请日 2020.10.27
(71)申请人 常瑛超
地址 518
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