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护膜粘合剂残留物移除系统和方法.pdfVIP

护膜粘合剂残留物移除系统和方法.pdf

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    本公开内容的实施方式大致上包括用于从光刻掩模的表面移除粘合剂残留物的设备和方法。具体地，本文所描述的处理系统提供将溶剂输送到光刻掩模的表面上的分立的多个位置，以有助于从所述光刻掩模的表面移除粘合剂残留物。在一个实施方式中，一种处理基板的方法包括：将基板定位在处理系统的基板支撑件上，将多个清洁单元中的个别的清洁单元于相应的多个位置处密封至基板的表面，将清洁流体加热到介于约50℃至约150℃之间的温度，使所述清洁流体流至所述多个清洁单元，然后从多个清洁单元流出，并且将所述基板的表面暴露于所述多个位置

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112384854 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 201980046503.3 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理

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