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本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种自洁性多孔真空吸盘及其制备方法。所述自洁性多孔真空吸盘，包括基座以及设于基座上的多孔金属吸附板，所述基座中部设有沉台，多孔金属吸附板卡接于沉台内；所述基座的沉台中部设有贯穿基座的抽气孔，沉台上表面设有十字交叉槽和若干沿竖直向下延伸的同心环形凹槽，所述十字交叉槽贯穿环形凹槽和抽气孔。本发明的多孔真空金属吸盘，其多孔金属吸附板内部纵横交错的通道以及吸盘基座腔体上通气沟槽表面均沉积了PTFE防粘涂层，能够解决目前主流多孔真空陶瓷吸盘，微孔易堵塞且不易清洁的问题
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112366167 A
(43)申请公布日 2021.02.12
(21)申请号 202011188474.5 C23C 18/36 (2006.01)
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