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为了减少在压紧后特别是随长时间段推移而松弛的程度,提出了基板(51)或特别是用于EUV光刻的具有该类型的基板(51)的反射光学元件(50),其中,基板的表面区域(511)具有表面涂层(54)。这些基板(51)的特征在于,掺杂钛的石英玻璃至少在表面区域(511)附近具有至少1*1016/cm3的Si‑O‑O‑Si键的比例和/或至少1*1016/cm3的Si‑Si键的比例,或者沿着垂直于表面区域(511)的抽象线(513)、在500nm或更多的长度(517)之上具有多于5x1018分子/cm3的氢含
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112384483 A
(43)申请公布日 2021.02.19
(21)申请号 201980045269.2 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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